logo
  • LDR __ 02001nam\2200541i4500
  • 005 __ 20121018102111.0
  • 008 __ 040131s2004\\era\||||||||||eng\
  • 020 __ |a9985594975
  • 040 __ |aErRR|best|cErRR|dErEAR
  • 041 0_ |aeng|best
  • 072 _7 |a621.3|2udkrb
  • 080 __ |a621.382.22|x(043)|2est
  • 100 1_ |aKorolkov, Oleg,|d1947-
  • 245 10 |aFormation of diffusion welded Al contacts to semiconductor silicon carbide /|cOleg Korolkov.
  • 260 __ |aTallinn :|bTallinn University of Technology Press,|c2004|e([Tallinn] :|fInfotrükk)
  • 300 __ |a91 lk. :|bill. ;|c26 cm.
  • 490 1_ |aTheses of Tallinn University of Technology. C, Thesis on informatics and system engineering,|x1406-4731 ;|v19.
  • 502 __ |aDoktoritöö : Tallinna Tehnikaülikool, 2004.
  • 504 __ |aAutori publikatsioonid lk. 63-64. - Bibliograafia lk. 57-64.
  • 546 __ |aKokkuvõte eesti keeles.
  • 650 _9 |apooljuhtdioodid.
  • 650 _9 |ajõuelektroonika.
  • 650 _9 |aSchottky barjäär.
  • 650 _9 |aränikarbiid.
  • 650 _9 |atehnoloogia.
  • 650 _9 |akeevisliited.
  • 655 _9 |adissertatsioonid.
  • 710 2_ |aTallinna Tehnikaülikool.
  • 752 __ |cHarjumaa.
  • 830 _0 |aTallinna Tehnikaülikooli väitekirjad.|nC ;|v19.
  • 910 0_ |aRMT 2005:02|b9985-59-497-5
  • 930 0_ |ar|b1. Teaduskirjandus|cK|dE
  • 950 __ |eRBK mall|tRBK ellen|sNAO helju 2005-02 (696>691)