E-ressursid
Autor
Aarik, Lauri, 1980-
Pealkiri
Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings [Võrguteavik] / Lauri Aarik ; supervisor Väino Sammelselg ; Institute of Physics, Department of Material Science, Faculty of Science and Technology, University of Tartu, Eesti AGA AS
Ilmumisandmed
Tartu : University of Tartu Press, 2017
Füüsiline kirjeldus
1 võrguväljaanne (75 lk. ; pdf)
Seeria pealkiri
Dissertationes scientiae materialis Universitatis Tartuensis ; 22
Dissertationes scientiae materialis Universitatis Tartuensis [Võrguteavik] ; 22
ISBN
9789949776030 (pdf)
Märkus
Doktoritöö: Tartu Ülikool, 2017
Sisaldab bibliograafiat
Kokkuvõte eesti keeles
Pealkiri võetud tiitelkuvalt (kirjeldatud 17.11.2017)
Täiendav kandja
Täistekst koos autori publikatsioonidega kättesaadav trükisena
Märksõnad
aatomkihtsadestamine; õhukesed kiled; oksiidkiled; dissertatsioonid; e-raamatud
Teised autorid
Sammelselg, Väino, 1949-, juhendaja
Kollektiivautorid
Tartu Ülikool. Füüsika instituut
Eesti-AGA (firma)
UDK
539.2 (043) (0.034)
Teine kandja
Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings. 9789949776023