E-ressursid
Autor
Rammula, Raul, 1981-
Pealkiri
Atomic layer deposition of HfO2 – nucleation, growth and structure development of thin films / Raul Rammula
Ilmumisandmed
Tartu : Tartu University Press, 2011 (Tartu : Tartu Ülikooli Kirjastuse trükikoda)
Füüsiline kirjeldus
147, [1] lk. : ill. ; 25 cm
Seeria pealkiri
Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis, ISSN 1406–0647 ; 78
ISBN
9789949197798
9789949197804 (pdf)
Märkus
Võrguväljaandes puuduvad trükises toodud väitekirja teemal avaldatud publikatsioonide täistekstid
Doktoritöö: Tartu Ülikool, 2011
Autori publikatsioonid lk. 7-8. - Bibliograafia lk. 77-87
Kokkuvõte eesti keeles
Täiendav kandja
Kättesaadav ka võrguteavikuna
Märksõnad
hafniumiühendid; oksiidid; aatomkihtsadestamine; õhukesed kiled; füüsikalised omadused; nukleatsioon; dissertatsioonid
Kollektiivautorid
Tartu Ülikool
Eesti üliõpilaste teadustööde riiklik konkurss (2011)
UDK
539.216 (043)
548.5 (043)